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磁控溅射靶材费用、磁控溅射靶材要求

导读溅射靶材的介绍最佳答案溅射靶材的要求较传统材料行业高,一般要求如,尺寸、平整度、纯度、各项杂质含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸与缺陷控制;较高要求或特殊要求包含:表面粗...

今天探索吧就给我们广大朋友来聊聊磁控溅射靶材费用,以下关于观点希望能帮助到您找到想要的答案。

溅射靶材的介绍

溅射靶材的介绍

最佳答案溅射靶材的要求较传统材料行业高,一般要求如,尺寸、平整度、纯度、各项杂质含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸与缺陷控制;较高要求或特殊要求包含:表面粗糙度、电阻值、晶粒尺寸均匀性、成份与组织均匀性、异物(氧化物)含量与尺寸、导磁率、超高密度与超细晶粒等等。磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相镀膜方式,就是用电子枪系统把电子发射并聚焦在被镀的材料上,使其被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离材料飞向基片淀积成膜。这种被镀的材料就叫溅射靶材。 溅射靶材有金属,合金,陶瓷,硼化物等。

石英片磁控溅射镀膜在使用,技术等方面有什么注意事项?

最佳答案使用靶材时的注意事项:

1、靶材的外形尺寸要与机器要求的设计一致;

2、靶材外表与内在清洁度要高,是在洁净室内加工制成的;3、靶材的质量可据合同要求定制(高纯度99.99%、高密度、低气体含量,尺寸(银靶材约127×178×7mm,重量1.66Kg),无裂纹,无孔洞);4、靶材的致密度要一致(可在显微镜下观察到);5、靶材在使用中要记录下该工序的各种数据,以便观察其变化及差距;6、使用银靶15000WH,铬靶25000WH时需更换新靶材;7、靶材的更换要严格按设备中的操作工艺执行;8、靶材使用后称重量(银靶材约1.25~1.3Kg)返回原供货商,加工后再使用,往返循环.

机器运行时的注意事项:

1、保持机器内舱各部位的清洁;

2、关注真空度指标;

3、检查并记录抽真空的时间,如有延长,立刻检查造成的原因;4、记录溅射功率和时间(一般溅射机的银靶设定功率为0.6千瓦,金靶的设定功率为0.75千瓦,铬的行走速率为9000pps),如有异常,立刻检查造成的原因;5、根据镀出石英振子的散差,调整遮挡板的各部尺寸;6、溅镀后的石英振子要用3M胶带检查其牢固度;7、测试并记录镀好的石英振子主要指标,如:频率、电阻、DLD等;8、将不良品挑出:电极错位、划伤、脏污、掉银等(工位上要有不良品示意图).

技术注意事项:

1、石英片温度的影响:温度较低→薄膜颗粒小→晶界散射多→电阻率下降;温度较高→晶粒过大→缺陷增多→电阻率升高.

2、沉积时间的影响:沉积时间延长→薄膜厚度增加→透过率下降→电阻率下降;沉积时间过长→温度过高→晶粒过大→缺陷增多→电阻率升高.

3、溅射功率的影响:溅射功率增加→溅射粒子增多→粒子能量增加→膜层与石英片粘附力增加→膜层致密性增加;溅射功率过高→氩离子能量过大→陶瓷靶易开裂→溅射粒子能量过大→薄膜致密性下降.

4、氩气气压的影响:氩气气压过低→氩离子少→溅射原子少→薄膜薄→晶化率低;氩气气压过高→氩离子过多→碰撞增多→薄膜晶化率低.

5、靶基距的影响:距离过小→加速不够→动能过小→薄膜薄→晶化率低;距离过大→散射增大→部分粒子不能溅射到石英片上→轰击过大→薄膜致密性下降.

想要成长,必定会经过生活的残酷洗礼,我们能做的只是杯打倒后重新站起来前进。上面关于磁控溅射靶材费用的信息了解不少了,探索吧希望你有所收获。

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作者: 探索吧

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